电化学制备Ba1-xSrxWO4薄膜的工艺研究及分析表征

• 作者: 余萍 张文 朱建国 杨祖念 毕剑 肖定全 陈连平 高道江
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: Ba1-xSrxWO4薄膜 电化学 XRD SEM XPS
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 225-227,230
• 页数: 4页
• 分类号: TB383|O646.542
• 字数: 3160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.02.032

摘要

采用恒电流技术直接在金属钨片上制备了白钨矿结构的Ba1-xSrxWO4晶态薄膜;讨论了电流密度、酸度、温度、电解液浓度等工艺条件对薄膜形成的影响.采用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的晶相;扫描电镜(SEM)研究了薄膜的表面形貌;X射线光电子能谱(XPS)分析了薄膜的成分与价态.研究结果表明,通过控制上述工艺条件可以控制沉积薄膜的质量;在室温附近、较低的电流密度、pH值在12～13范围内时,能够制备出结晶良好、表面均匀的Ba1-xSrxWO4固溶体薄膜.