热丝辅助ECR-CVD制备a-Si:H薄膜的红外和光致衰退研究

• 作者: 吴越颖 周怀恩 张文理 朱秀红 胡跃辉 荣延栋 邓金祥 阴生毅 陈光华
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶硅 红外 光致衰退
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 功能材料制备加工技术
• 页码范围: 3181-3183
• 页数: 3页
• 分类号: O484.5
• 字数: 1878字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.894

摘要

采用热丝辅助MWECR-CVD系统制备出了a-Si:H薄膜.应用傅立叶红外仪测量了薄膜的红外谱,用共面蒸铝电极法测量了薄膜的光电导.通过比较A样品(加入热丝)和B样品(未加热丝),得出在热丝辅助MWECR-CVD系统制备非晶硅薄膜过程中,热丝的光照对薄膜的抗衰退起到了关键作用,用该系统制备非晶硅薄膜,大大降低了薄膜中的总氢含量,提高了薄膜的稳定性,同时,Si-H键合体的摇摆模发生了红移.