基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响

• 作者: 狄国庆 赵新民
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 辉光 磁场模拟 膜厚梯度
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 306-310
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3706字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.01.058

摘要

溅射时在基片下方放置磁铁,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法.发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化.运用磁荷理论对空间磁场分布进行模拟,解释了辉光形貌变化的机理;运用沉积粒子在外加梯度磁场中运动理论解释了膜厚分布.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	狄国庆	苏州大学物理系	18	135	7.0	11.0
2	赵新民	苏州大学物理系	2	38	2.0	2.0