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CdIn2O4薄膜性质及其应用研究
CdIn2O4薄膜性质及其应用研究
作者:
张津
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
CdIn2O4薄膜
退火处理
电阻率
气敏性
摘要:
利用射频反应溅射法在玻璃衬底上在Ar和O2气氛中从Cd-In合金靶上制备出了CdIn2O4薄膜.实验结果表明退火处理对CdIn2O4薄膜的光电性质有重要的影响.退火处理进一步降低了CdIn2O4膜的电阻率,在可见光区域内该膜的最高光透射率超过了90%.研究还发现CdIn2O4膜电阻在CO气氛中十分敏感的发生变化,并且提高温度和在膜上生长不连续的Pt粒子可进一步增强气敏特性.实验研究还表明CdIn2O4膜气敏传感器响应时间比通用的气敏元件快得多.
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文献信息
篇名
CdIn2O4薄膜性质及其应用研究
来源期刊
功能材料
学科
物理学
关键词
CdIn2O4薄膜
退火处理
电阻率
气敏性
年,卷(期)
2004,(z1)
所属期刊栏目
电功能材料及其应用
研究方向
页码范围
1193-1195
页数
3页
分类号
O484.1
字数
1492字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.335
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张津
重庆工学院材料科学与工程学院
57
883
19.0
28.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
引文网络
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退火处理
电阻率
气敏性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
主办单位:
重庆材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-9731
CN:
50-1099/TH
开本:
16开
出版地:
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮发代号:
78-6
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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