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摘要:
利用射频反应溅射法在玻璃衬底上在Ar和O2气氛中从Cd-In合金靶上制备出了CdIn2O4薄膜.实验结果表明退火处理对CdIn2O4薄膜的光电性质有重要的影响.退火处理进一步降低了CdIn2O4膜的电阻率,在可见光区域内该膜的最高光透射率超过了90%.研究还发现CdIn2O4膜电阻在CO气氛中十分敏感的发生变化,并且提高温度和在膜上生长不连续的Pt粒子可进一步增强气敏特性.实验研究还表明CdIn2O4膜气敏传感器响应时间比通用的气敏元件快得多.
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文献信息
篇名 CdIn2O4薄膜性质及其应用研究
来源期刊 功能材料 学科 物理学
关键词 CdIn2O4薄膜 退火处理 电阻率 气敏性
年,卷(期) 2004,(z1) 所属期刊栏目 电功能材料及其应用
研究方向 页码范围 1193-1195
页数 3页 分类号 O484.1
字数 1492字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.335
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张津 重庆工学院材料科学与工程学院 57 883 19.0 28.0
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研究主题发展历程
节点文献
CdIn2O4薄膜
退火处理
电阻率
气敏性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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