氮气流量对金刚石膜生长的影响研究

• 作者: 吕宪义 孙宝茹 李明吉 金曾孙
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 氮气 生长速率 表面形貌 膜品质 EA-CVD方法
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 力和声功能材料及其应用
• 页码范围: 2146-2148,2156
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2405字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.593

摘要

采用电子辅助化学气相沉积法(EA-CVD)制备掺氮金刚石薄膜,研究了不同氮气流量对金刚石膜的生长速率、表面形貌和膜品质的影响.实验发现,在较低的氮气流量下,金刚石膜的生长速率增加,在较高的氮气流量下生长速率减小.利用SEM、Raman光谱、XPS等测试手段对样品的表面形貌及品质进行了表征.结果表明,当氮气流量为4sccm时金刚石膜的结晶比较完整;当氮气流量为8sccm时生成与(100)面共存的"菜花状".氮气流量的进一步增加,"菜花"表面(100)晶面显露的数量明显降低,非金刚石碳含量和氮杂质含量增加,金刚石膜的品质明显下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕宪义	吉林大学超硬材料国家重点实验室	27	302	10.0	17.0
2	金曾孙	吉林大学超硬材料国家重点实验室	50	462	12.0	19.0
3	李明吉	吉林大学超硬材料国家重点实验室	3	28	2.0	3.0
4	孙宝茹	吉林大学超硬材料国家重点实验室	2	6	1.0	2.0