大面积碳纳米管薄膜的低温制备与表征

• 作者: 刘兴辉 刘卫华 朱长纯 田昌会
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 大面积Ni衬底 化学气相沉积 场致发射特性
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 590-592
• 页数: 3页
• 分类号: TN412
• 字数: 2741字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.05.020

摘要

采用研制的大体积射频等离子体红外加热化学气相沉积设备,在600℃的低温下,在5cm×5cm大的Ni片上生长出碳纳米管薄膜.扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察显示,碳纳米管薄膜具有很好的均匀性,管径大约为70～90nm.随机地对样品的3个不同区域进行了场发射特性的测试,结果表明这种薄膜具有良好的场发射特性及一致性.开启电场约为2.4V/μm,在电场为6.6V/μm时的发射电流密度达到1635μA/cm2.实验结果表明在低温条件下,大面积生长场发射用碳纳米管薄膜是可行的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱长纯	西安交通大学电信学院真空微电子与微电子机械研究所	215	2372	22.0	41.0
2	刘卫华	西安交通大学电信学院真空微电子与微电子机械研究所	33	304	9.0	16.0
3	田昌会	西安交通大学电信学院真空微电子与微电子机械研究所	10	55	4.0	7.0
4	刘兴辉	西安交通大学电信学院真空微电子与微电子机械研究所	12	88	5.0	9.0