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PECVD法制备微晶硅薄膜的研究
PECVD法制备微晶硅薄膜的研究
作者:
张德贤
林列
蔡宏琨
郝延明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
太阳电池
微晶硅
电导率
光学带隙
摘要:
对等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)制备的微晶硅(μc-Si)薄膜的电导率、光学带隙和晶化率随温度和功率的变化规律进行了研究.从拉曼谱中可以明显看出,随着功率的增大,N型材料的非晶肩逐渐减小,材料的晶化率增大.随着温度的升高,P型材料的暗电导率和激活能都是先升高后降低.
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PECVD低温制备微晶硅薄膜的研究
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文献信息
篇名
PECVD法制备微晶硅薄膜的研究
来源期刊
功能材料
学科
物理学
关键词
太阳电池
微晶硅
电导率
光学带隙
年,卷(期)
2004,(z1)
所属期刊栏目
能源和化学功能材料及其应用
研究方向
页码范围
1938-1940
页数
3页
分类号
O484.4
字数
1091字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.539
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郝延明
天津师范大学物理与电子信息学院
22
58
5.0
6.0
2
林列
南开大学信息学院
22
59
4.0
6.0
3
蔡宏琨
天津师范大学物理与电子信息学院
3
8
2.0
2.0
4
张德贤
南开大学信息学院
22
77
5.0
8.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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(0)
共引文献
(0)
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(1)
节点文献
引证文献
(0)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
1996(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2004(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
太阳电池
微晶硅
电导率
光学带隙
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
主办单位:
重庆材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-9731
CN:
50-1099/TH
开本:
16开
出版地:
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮发代号:
78-6
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
相关基金
天津市高等学校科技发展基金
英文译名:
官方网址:
http://www.tjcu.edu.cn/web/fenyuan/keyanchu/keyanchudangload/10.doc
项目类型:
基础理论研究项目、应用研究项目、开发性研究项目
学科类型:
期刊文献
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