磁控溅射沉积的Ge/ZnO复合多层膜的光致发光特性研究

• 作者: 宁兆元 范东华
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ge/ZnO多层膜 光致发光
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 光功能材料及其应用
• 页码范围: 328-330,333
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 3261字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.079

摘要

采用交替溅射Ge和ZnO靶的方法在Si(100)单晶基片上沉积了Ge/ZnO复合多层膜,并对其在空气中不同温度下进行了快速加热处理.在高温处理中部分Ge成分会被氧化转变成Ge的氧化物,XRD结果表明所制备的薄膜是由ZnO、Ge、GeO和GeO2多晶颗粒组成的复合薄膜,且随着温度的升高晶粒的尺寸加大,结晶度提高.光致发光谱的测量显示,经过高温处理过的Ge/ZnO复合多层膜可以在395nm左右发出强的紫光,随着温度的增加紫峰变尖锐且强度大大提高,并有590nm的黄发光峰出现.紫峰的增强是由于薄膜结晶度提高导致激子复合增加的结果,黄峰是由于Ge颗粒引起的局域态相关的跃迁而产生的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范东华	苏州大学物理学院薄膜材料省重点实验室	1	0	0.0	0.0
2	宁兆元	苏州大学物理学院薄膜材料省重点实验室	70	528	12.0	18.0