R.F.磁控溅射生成的氧化钨薄膜的性能

• 作者: 刘祖黎 姚凯伦 宋玉苏 李竹影
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化钨薄膜 电致变色 r.f.磁控溅射
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 电功能材料及其应用
• 页码范围: 1447-1449
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1900字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.406

摘要

由于薄膜沉积过程中缺乏氧气,溅射得到的是化学配比偏离WO3的氧化钨薄膜,本文详细研究了不同电压下,R.F磁控溅射生成的不同化学配比的氧化钨薄膜的伏安循环特性;发现它们在一定电压范围内(1.15V到2.8V)都可产生着色现象.着色后对光的吸收是一致的.光的透过率显示电压超过某一值后,膜的变色能力减弱并消失.XRD显示本文所得氧化钨薄膜主要是非晶态的结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚凯伦	华中科技大学物理系	32	341	10.0	17.0
2	刘祖黎	华中科技大学物理系	36	485	12.0	21.0
3	李竹影	华中科技大学物理系	25	85	5.0	8.0
5	宋玉苏	海军工程大学文理学院	64	402	11.0	17.0