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摘要:
为了揭示Ti-Si-N复合膜中Si3N4界面相的存在方式及其对薄膜力学性能的影响,采用x射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、俄歇电子能谱仪和显微硬度仪对比研究了磁控溅射Ti-Si-N复合膜和TiN/Si3N4多层膜的微结构和力学性能.实验结果表明,Ti-Si-N复合膜均形成了Si3N4界面相包裹TiN纳米晶粒的微结构.其中低Si含量的Ti-Si-N复合膜中Si3N4界面相的厚度小于1nm,且以晶体态存在,薄膜呈现高硬度.而高Si含量的Ti-Si-N复合膜中的Si3N4界面相以非晶态存在,薄膜的硬度也相应降低.显然,Ti-Si-N复合膜中Si3N4界面相以晶体态形式存在是薄膜获得高硬度的重要微结构特征,其强化机制可能与多层膜的超硬效应是相同的.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 Ti-Si-N复合膜的界面相研究
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 Ti-Si-N复合膜 界面相 微结构 超硬效应
年,卷(期) 2005,(8) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 3774-3779
页数 6页 分类号 O4
字数 4351字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.08.054
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 顾明元 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 82 1649 22.0 37.0
2 董云杉 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 16 108 6.0 9.0
3 孔明 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 19 194 8.0 13.0
4 李戈扬 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 109 1036 18.0 25.0
5 胡晓萍 上海大学材料科学与工程学院 1 12 1.0 1.0
传播情况
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Ti-Si-N复合膜
界面相
微结构
超硬效应
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