交联蒙脱土催化剂底面间距的测定

• 作者: 何美 周华锋 王雅静 聂英龙
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 交联 蒙脱土 底面间距
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 分析检测
• 页码范围: 179-182
• 页数: 4页
• 分类号: O643.36
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0935.2005.04.015

摘要

通过X射线衍射测定了一系列羟基混合金属柱交联蒙脱土的底面间距,并考察了制备条件、焙烧温度等对交联蒙脱土底面间距的影响.结果发现蒙脱土经交联之后底面间距有较大的增加;采用共混法、焙烧温度在500℃时制得的催化剂具有较大的底面间距;另外,羟基混合金属柱中各种金属离子的比例对交联蒙脱土的底面间距有较大的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周华锋	沈阳化工学院应用化学系	37	209	10.0	12.0
2	聂英龙	沈阳化工学院应用化学系	9	17	3.0	3.0
3	王雅静	沈阳化工学院应用化学系	43	215	8.0	13.0
4	何美	沈阳化工学院应用化学系	17	103	6.0	9.0