真空热蒸发酞菁铜(CuPc)薄膜的结构及光学、电学性能研究

• 作者: 何智兵 吴卫东 唐永建 韩高荣
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 酞菁铜(CuPc) 薄膜 结构 性能 真空蒸发
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 278-282
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.5|O484
• 字数: 3502字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.04.011

摘要

为研究衬底温度对酞菁铜(CuPc)薄膜的结构、光学及光电导性能的影响,文中采用真空热蒸发方法制备了不同衬底温度的CuPc薄膜.X射线衍射和Raman光谱分析显示CuPc薄膜呈现很好的定向生长特性,随衬底温度的升高,CuPc薄膜的结晶性变好,其中α-CuPc的相对含量逐渐增加,而β-CuPc相应减少;场发射扫描电镜观察了不同衬底温度下薄膜的表面形貌和晶粒分布情况;用紫外可见光谱表征了CuPc薄膜的光学性能;CuPc薄膜的光敏性随衬底温度的升高表现出先增大后减小的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	韩高荣	浙江大学材化学院无机研究所	187	1971	24.0	35.0
3	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
4	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0