铁电存储器的研究及其工艺上的实现

• 作者: 李平 杨邦朝 翟亚红 胡滨 蔡道林
• 来源期刊: 混合微电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 读出电路 CMOS工艺 刻蚀 铁电薄膜 铁电存储器 阵列 电容 集成 解决办法
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨邦朝	电子科技大学微电子与固体电子学院	253	3422	31.0	49.0
2	李平	电子科技大学微电子与固体电子学院	144	1645	22.0	36.0
3	翟亚红	电子科技大学微电子与固体电子学院	16	54	5.0	7.0
4	胡滨	电子科技大学微电子与固体电子学院	10	61	5.0	7.0
5	蔡道林	电子科技大学微电子与固体电子学院	3	8	2.0	2.0