二氧化钒薄膜的退火组分变化及光学特性研究

• 作者: 刘金成 掌蕴东 王骐 田雪松 鲁建业
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光防护 相变 磁控溅射 二氧化钒
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 材料和元件
• 页码范围: 332-333,336
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8
• 字数: 1756字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2005.03.006

摘要

为得到高纯度的VO2薄膜,对其制备参数进行了探索.VO2薄膜用磁控溅射法制备.对不同条件下制备的VO2薄膜用X射线电子能谱仪(XPS)测试,并通过拟合来得到3,4,5价钒在薄膜中所占的比例.为提高4价钒的含量对薄膜进行了退火处理,分析了退火对氧化钒薄膜中4价钒含量的影响.结果表明,VO2薄膜对10.6μm激光的透过率从60℃时的74%变到78℃时的11.93%,发生了相变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王骐	哈尔滨工业大学光电子技术研究所	256	2059	22.0	32.0
2	掌蕴东	哈尔滨工业大学光电子技术研究所	37	374	11.0	18.0
3	鲁建业	哈尔滨工业大学光电子技术研究所	22	153	5.0	12.0
4	刘金成	哈尔滨工业大学光电子技术研究所	8	24	2.0	4.0
5	田雪松	哈尔滨工业大学光电子技术研究所	4	88	3.0	4.0