框架黑化炉工艺技术开发及应用

• 作者: 张博 杨联朋
• 来源期刊: 显示器件技术
• 学科: 工学
• 关键词: 黑化膜 膜质 斑点 翘曲 黑化工艺 技术开发 框架 应用 炉 机理分析
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 12-16
• 页数: 5页
• 分类号: TS972.26

摘要

本文从黑化机理分析入手，结合黑化炉设备特点，从设备、环境、来料等几个方面分析了影响黑化膜质量的各种因素，成功开发出了独具特色的黑化工艺，并且解决了在黑化炉设备调试中一直存在框架翘曲变形的问题

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨联朋		1	0	0.0	0.0
2	张博		2	0	0.0	0.0