射频反应溅射(Al,Ti)N涂层的微结构与力学性能

• 作者: 李戈扬 梅芳华 董云杉 赵文济
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: (Al,Ti)N涂层 反应溅射 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 48-52
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2005.09.013

摘要

采用Al-Ti镶嵌复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Al,Ti)N涂层,并采用EDS,AFM,XRD,TEM和微力学探针表征了涂层的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能,研究了氮分压对涂层的影响.结果表明,氮分压对(Al,Ti)N涂层影响显著:合适的氮分压可以得到化学计量比的(Al,Ti)N涂层,涂层为单相组织,并呈现(111)择优取向,最高硬度和弹性模量分别达到36.9GPa和476GPa.过低的氮分压不但会造成涂层贫氮,而且涂层中的Al含量偏低,硬度不高.氮分压过高,由于存在"靶中毒"现象,尽管涂层的成分无明显变化,但会大大降低其沉积速率,并使涂层形成纳米晶或非晶态结构,涂层的硬度也较低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董云杉	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	16	108	6.0	9.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	梅芳华	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	7	73	6.0	7.0
4	赵文济	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	86	6.0	9.0