类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备

• 作者: 丁万昱 徐军 董闯 邓新绿 高鹏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石 磁盘 磁过滤弧 等离子体增强化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 41-46,49
• 页数: 7页
• 分类号: O481.1
• 字数: 5416字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.011

摘要

类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜.磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到1万亿字节/英寸2.这要求读写磁头距离磁盘更近,即需要一层仅1 nm～2 nm厚的类金刚石薄膜.四面体结构的非晶碳膜能够满足磁存储技术的要求,即形成原子尺度平滑、连续、致密,只有几个原子层厚的碳膜.磁过滤阴极弧方法、等离子体增强化学气相沉积方法可用来制备符合要求的超薄碳膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓新绿		28	356	9.0	17.0
2	董闯		198	2023	23.0	34.0
3	丁万昱		10	77	6.0	8.0
4	高鹏		41	283	10.0	15.0
5	徐军		51	346	11.0	14.0