原位制备细晶Si3N4-Si2N2O复相陶瓷

• 作者: 张凯锋 王国峰 陈国清 骆俊廷
• 来源期刊: 粉末冶金技术
• 学科: 工学
• 关键词: 原位制备 Si3N4-Si2N2O 复相陶瓷 孔隙
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 172-175
• 页数: 4页
• 分类号: TF1
• 字数: 1701字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-3784.2005.03.003

摘要

以Y2O3和Al2O3纳米陶瓷粉体作为烧结助剂,液相烧结非晶纳米Si3N4陶瓷粉体,制备Si3N4-Si2N2O复相陶瓷.Si2N2O相通过原位反应2Si3N4(s)+1.5 O2(g)=3Si2N2O (s)+ N2(g)生成.1600℃烧结,烧结体保温30min,Si2N2O体积分数达到52%,基本由细小均匀的球形晶粒构成,平均粒径尺寸210nm,相变过程中,个别颗粒异常长大,长径比达到1.5.保温时间对孔隙、密度和粒径产生重要影响:随着保温时间的延长,孔隙逐渐收缩减小,烧结体的致密度逐渐提高,晶粒逐渐长大,保温60min,孔隙几乎完全闭合,相对密度达到99.1%,平均粒径280nm.当保温时间达到90min时,相对密度增加并不明显,但平均粒径长大到360nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张凯锋	哈尔滨工业大学精密热加工国家重点实验室	122	1487	20.0	33.0
2	王国峰	哈尔滨工业大学精密热加工国家重点实验室	51	389	11.0	17.0
3	骆俊廷	哈尔滨工业大学精密热加工国家重点实验室	6	54	4.0	6.0
4	陈国清	哈尔滨工业大学精密热加工国家重点实验室	8	120	5.0	8.0