化学镀镍在32×32非致冷红外焦平面互连中的应用

• 作者: 付小潮 史锡婷 易新建 李毅 董珊 赵小梅 陈四海
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 互连 红外焦平面 化学镀镍 锌化
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 303-306
• 页数: 4页
• 分类号: TN215
• 字数: 2753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2005.04.009

摘要

红外焦平面需要用互连技术把光敏元阵列与信号读出电路进行互连,利用化学镀的方法,在32×32非致冷红外焦平面阵列的CMOS读出电路上镀直径为6μm,高度为2μm的互连柱.测试结果表明,该技术稳定可靠,是实现接触孔互连的可行方法.