基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
以反相器电路为例,介绍了CMOS集成电路的工艺结构;采用双端pnpn结结构模型,较为详细地分析了CMOS电路闩锁效应的形成机理;介绍了在电路版图级、工艺级和电路应用时如何采用各种有效的技术手段来避免、降低或消除闩锁的形成,这是CMOS集成电路得到广泛应用的根本保障.
推荐文章
模拟CMOS集成电路SEL仿真验证研究
CMOS集成电路
单粒子闩锁
失效物理
仿真验证
CMOS集成电路的抗辐射设计
CMOS集成电路
抗辐射加固
总剂量效应
单粒子效应
CMOS集成电路的ESD设计技术
互补金属氧化物半导体
集成电路
静电放电
技术
设计
体硅CMOS电路瞬时电离辐射下的自洽防闩锁机理分析
瞬时辐射
闩锁
剂量率
CMOS集成电路
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 CMOS集成电路抗闩锁策略研究
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词 CMOS集成电路 闩锁效应 功耗 双端pnpn结 可控硅
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目 市场综述
研究方向 页码范围 10-14
页数 5页 分类号 TN4
字数 3660字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-2583.2005.02.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李文石 苏州大学电子信息学院微电子系 63 284 10.0 13.0
2 钱敏 苏州大学电子信息学院微电子系 31 212 9.0 13.0
3 黄秋萍 苏州大学电子信息学院微电子系 14 60 5.0 7.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (7)
同被引文献  (2)
二级引证文献  (26)
2005(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2010(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2011(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
2012(4)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(3)
2013(5)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(4)
2014(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
2015(4)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(4)
2016(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2018(7)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(6)
2019(4)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(4)
研究主题发展历程
节点文献
CMOS集成电路
闩锁效应
功耗
双端pnpn结
可控硅
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
论文1v1指导