光刻工艺稳定性研究

• 作者: 汪继芳
• 来源期刊: 集成电路通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻工艺 稳定性 表面加工技术 工艺质量 光刻胶选择
• 年，卷（期）: jcdltx_2005,（1）
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TN405.7

摘要

光刻技术是一种精密的表面加工技术，它是一种图形技术与图形刻蚀工艺相结合综合性工艺，是平面工艺中至关重要的一步，其工艺质量是影响器件性能、可靠性及成品率的关键因素之一。本文主要介绍了光刻工艺中容易出现的问题及解决方法，并通过分析和实验得出了稳定性方案。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪继芳		10	0	0.0	0.0