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NI隔离式DIO/TIO卡荣获ECN年度技术成果大奖
NI隔离式DIO/TIO卡荣获ECN年度技术成果大奖
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
隔离式
ECN
NI公司
板卡
模块
技术成果
年度
产品
美国
杂志
摘要:
2005年1月,在美国ECN杂志一年一度的技术成果大奖评选中,NI公司于2004年第一季度推出的3款隔离式DIO/TIO卡金榜题名。位列板卡和模块产品类(Boards and Modules category of the ECN Technology Awards)首位。
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NI隔离式DIO/TIO卡荣获ECN年度技术成果大奖
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NI公司
板卡
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技术成果
年度
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主办单位:
成都科学技术服务中心
成都自动化研究会
出版周期:
月刊
ISSN:
1817-0633
CN:
开本:
出版地:
成都市小南街123号冠城花园檀香阁3-1
邮发代号:
创刊时间:
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