反应溅射TiO/AlO和TiN/AlN薄膜的微结构与力学性能

• 作者: 李一睿 李戈扬 祝新发 胡祖光 许辉 赵文济
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO薄膜 AlO薄膜 TiN薄膜 AlN薄膜 反应溅射 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2698字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2005.05.006

摘要

采用Ti-Al镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列TiO/AlO和TiN/AlN薄膜,并采用EDS、XRD、TEM、AFM、SEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能.结果表明,随氧分压的提高,TiO/AlO和TiN/AlN薄膜中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但其(Ti+Al):(O+N)仍保持约为1:1的化学计量比.薄膜保持与(Ti,Al)N薄膜相同的NaCl结构,并形成强烈(200)织构的柱状晶.与此同时,TiO/AlO和TiN/AlN薄膜的硬度和弹性模量也仍保持在与TiN/AlN薄膜相当的35GPa和370～420GPa的高值.由于薄膜中形成了相当含量的氧化物,这类薄膜的抗氧化能力有望得到提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	祝新发		37	157	7.0	11.0
3	胡祖光		8	28	3.0	5.0
4	许辉		24	83	6.0	7.0
5	赵文济	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	86	6.0	9.0
6	李一睿	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	2	2	1.0	1.0