微弧氧化技术国内外研究进展

• 作者: 刘耀辉 李颂
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 陶瓷层 表面改性
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 发展论坛
• 页码范围: 36-40
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 4032字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2005.06.012

摘要

综述了微弧氧化工艺自20世纪60年代产生至今在电源、电解液和基体合金方面的发展过程,总结了微弧氧化膜的化学成分及相结构从基体到膜表面的分布规律及电流密度、氧化时间、电压、电解液组分等因素对陶瓷膜生长和性能的影响规律.同时指出微弧氧化技术虽具有广泛的应用前景,但在理论研究和生产成本控制等方面仍存在不足之处.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘耀辉	吉林大学材料科学与工程学院汽车材料教育部重点实验室	84	1118	16.0	30.0
2	李颂	吉林大学材料科学与工程学院汽车材料教育部重点实验室	5	185	4.0	5.0