实现均匀焦斑的大孔径连续相位衍射光学元件

• 作者: QiaofengTan 李浏
• 来源期刊: 云光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射光学元件 焦斑 大孔径 大功率激光系统 相位设计 模拟算法 CCD测量 均匀照明 相位调制 混合算法 算法收敛 全局优化 离子蚀刻 玻璃基片 相位分布 干涉图样 强度分布 动态范围 数据处理 光效率 DOE 灵活性 均匀度 旁瓣
• 年，卷（期）: ygjs_2005,（1）
• 页码范围: 43-47
• 页数: 5页
• 分类号: TN248.22

摘要

许多大功率激光系统，需要顶平，边陡，旁瓣小和光效率高的均匀焦斑。用衍射光学元件(DOE)实现这样的均匀照明有许多优点，例如纯相位调制光效率高，相位设计灵活性大等等。相位设计，采用一种以登山和模拟算法为基础的混合算法，因为登山算法收敛大，模拟算法全局优化有潜能。用旋转空心掩模和离子蚀刻，在K9玻璃基片上加工了直径100mm的连续相位DOE。DOE干涉图样呈现相位分布平滑。焦斑的强度分布用一般CCD测量，并用一系列消光器增大测量动态范围。数据处理后的结果表明，焦斑均匀，其主瓣有一定的均匀度，边陡，旁瓣小，零级无锐峰。