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摘要:
在2004年12月13日至15日在美国旧金山举行的的IEEE国际电子器件会议(IEDM)上,来自飞利浦的研发专家发表了17余篇关于尖端半导体研发的论文,详细介绍了飞利浦与比利时微电子研究中心(IMEC)以及Crolles2联盟(飞利浦、飞思卡尔半导体和ST微电子/意法半导体的合作联盟)共同开展的研发项目。这些论文主要介绍65纳米和45纳米节点的CMOS工艺开发,
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内容分析
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相关文献总数  
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文献信息
篇名 飞利浦公布新型半导体技术
来源期刊 变频器世界 学科 工学
关键词 半导体技术 CMOS工艺 晶体管 闸极氧化层 飞利浦公司 电子产业
年,卷(期) bpqsj_2005,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 33-34
页数 2页 分类号 TN3
字数 语种
DOI
五维指标
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
半导体技术
CMOS工艺
晶体管
闸极氧化层
飞利浦公司
电子产业
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
变频器世界
月刊
1561-0330
大16开
深圳市南山区高新南区科苑南路中地数码大厦
1997
chi
出版文献量(篇)
10353
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44
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