电化学和光谱法研究镍镀层表面肉豆寇酸配合物膜

• 作者: 李远军 李道华
• 来源期刊: 西昌学院学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 电化学 光谱 镍镀层 肉豆寇酸配合物膜
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 数理科学
• 页码范围: 61-63
• 页数: 3页
• 分类号: O614.81
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1891.2005.02.018

摘要

用加速化学和电化学腐蚀实验(LSV)研究了一系列有机缓蚀剂在镍镀层表面形成的配合物膜的耐蚀性,结果表明,肉豆寇酸在镍镀层表面形成的膜耐蚀效果最佳.采用XPS和AES研究了配合物膜层的结构与性能,以及在金属表面的成键特征和波谱变化,探讨了配合物膜的组成、性能、结构、化学状态和形成机理.配合物膜由镍的氧化物和镍的肉豆寇酸配合物组成,其中Ni和O分别呈+2、+3和-2价.