电沉积Ni-S合金硫含量的影响因素

• 作者: 何捍卫 刘红江 刘芳 周科朝 李军 袁铁锤
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: Ni-S合金 硫含量 析氢电位
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 60-64
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2005.01.010

摘要

用电沉积法制备了Ni-S合金电极,研究了电流密度、镀液温度、镀液pH值、电沉积时间、硫脲浓度对镀层硫含量的影响;测试了不同硫含量的极化曲线;并用XRD、SEM对镀层进行了表征.结果表明:硫含量随着电流密度、pH值的增高而降低,随着镀液温度的升高、电沉积时间增长而增高;在硫脲浓度为100 g/L时硫含量最高.硫含量在12.5%～16.5%时,Ni-S合金电极析氢电位较低.所获得的镀层有Ni3S2活性成分,并有部分非晶态.镀层经电解后,变得更细,更均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘芳	中南大学粉末冶金国家重点实验室	125	1120	18.0	29.0
2	周科朝	中南大学粉末冶金国家重点实验室	294	2609	23.0	37.0
3	何捍卫	中南大学粉末冶金国家重点实验室	48	569	12.0	21.0
4	袁铁锤	中南大学粉末冶金国家重点实验室	59	353	11.0	15.0
5	李军	中船重工集团公司七一八研究所	7	24	3.0	4.0
6	刘红江	中南大学粉末冶金国家重点实验室	5	54	4.0	5.0