四氨基铜酞菁(CuTAPc)在金电极上成膜过程的研究

• 作者: 任春生 应敏 张晓敏
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: 石英晶体微天平 循环伏安法 四氨基铜酞菁 成膜过程 离子传输
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1-7
• 页数: 7页
• 分类号: O657.15
• 字数: 6687字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2005.01.001

摘要

采用循环伏安法和石英晶体微天平(EQCM)技术对四氨基铜酞菁(CuTAPc)在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,讨论了扫描速度、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响,同时考察了该聚合膜分别在非水溶液和水溶液中的氧化还原行为及稳定性,其中借助EQCM重点讨论了在这些过程中溶液中的离子在膜中传输的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	应敏	东华理工学院应用化学系	30	363	12.0	18.0
5	任春生	东华理工学院应用化学系	4	51	4.0	4.0
6	张晓敏	东华理工学院应用化学系	6	61	5.0	6.0