大视场投影光刻物镜的畸变特性检测

• 作者: 沈亦兵 马韬
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 畸变检测
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光学设计
• 页码范围: 46-49
• 页数: 4页
• 分类号: TH74O439
• 字数: 3286字
• 语种: 中文

摘要

畸变特性是光刻物镜的关键指标,目前少有报道,提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理,测量系统和测量数据的处理方法.利用该装置对研制的口径6英寸,分辨率3 μm的物镜进行了测量,得出该物镜在全视场的畸变值小于2.0 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈亦兵	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	40	431	10.0	19.0
2	马韬	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	5	64	4.0	5.0