3,4-乙撑二氧噻吩的原位化学氧化受限聚合动力学研究

• 作者: 周啸 戈钧 杨邦朝 汪斌华 王晓工 邓永红
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 聚(3,4-乙撑二氧噻吩) 化学氧化受限聚合 紫外-可见光谱 动力学
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1776-1778
• 页数: 3页
• 分类号: O631.5
• 字数: 1953字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.11.040

摘要

利用紫外-可见光谱,分别研究了3,4-乙撑二氧噻吩在45、65和85℃条件下的原位化学氧化受限聚合动力学规律.结果表明,温度的升高可以非常显著地加快单体的聚合速度,反应体系在45、65和85℃下完成聚合反应的时间分别为600、240和8min.温度对聚合反应的进程也有较显著的影响,在相对较低温度下(45和65℃),反应进程基本相同,都有比较明显的3个阶段(反应开始、稳定反应和反应终了阶段),而在相对较高温度下(85℃),反应进程则更简单,只有快速反应阶段和反应终了阶段.这些动力学数据可以为3,4-乙撑二氧噻吩在某些应用领域如固体电容器制备工艺中确定聚合温度和时间等工艺条件提供参考依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周啸	清华大学化工系	31	637	13.0	25.0
2	杨邦朝	电子科技大学微电子与固体电子学院	253	3422	31.0	49.0
3	戈钧	清华大学化工系	8	67	5.0	8.0
4	王晓工	清华大学化工系	132	1573	21.0	34.0
5	汪斌华	电子科技大学微电子与固体电子学院	12	491	10.0	12.0
9	邓永红	清华大学化工系	10	80	6.0	8.0