电化学制备P型硅基二维光子晶体优化参数

• 作者: 叶卫民 季家榕 张晚云 朱志宏 袁晓东
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 大孔硅 光子晶体 制备 电化学腐蚀法 参数 优化
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 377-381
• 页数: 5页
• 分类号: O646|O48
• 字数: 2701字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2005.04.004

摘要

利用光刻技术与碱性腐蚀等工艺预写晶格图样,采用电化学腐蚀方法在P<100>型硅基底制备二维大孔硅光子禁带结构.结果表明:在预写有晶格图样的P<100>型硅基底上由电化学阳极氧化制备的二维大孔硅,其孔洞的生长速率、深宽比及表/侧面形貌与电解质配比方案及阳极电流密度均密切相关.在优化的电化学工艺参数下得到的空气洞阵列,具有近乎完美的二维四方晶格,晶格常数为3.8μm,孔洞直径约3.0μm,孔洞深宽约90 μm,深宽比达30.该方法可用于制备在中红外或近红外波段具有完全二维光子带隙的光子晶体.