云铜铜电解生产工艺控制的技术进步

• 作者: 华宏全 黄太祥
• 来源期刊: 中国有色冶金
• 学科: 工学
• 关键词: 铜 电解 杂质 电解液净化 工艺控制
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺改进
• 页码范围: 36-38
• 页数: 3页
• 分类号: TF811.044
• 字数: 3538字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6103.2005.05.010

摘要

回顾和总结了云铜近年来对铜电解生产过程中杂质行为的认识和研究,工艺参数均一化控制的研究与实践,电解液净化工艺控制的改进与创新.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄太祥		9	71	5.0	8.0
2	华宏全		23	182	9.0	12.0