光刻技术及其新进展

• 作者: 刘晓莉 李霄燕 邵敏权
• 来源期刊: 光机电信息
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 集成电路 线宽
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: 研究生论坛
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2921字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1180.2005.09.005

摘要

介绍了用于制作半导体集成电路的光刻工艺的概念、分类及发展过程,阐述了当前光刻工艺的主流,并重点介绍了极紫外光刻、X射线光刻、电子束光刻、离子束光刻、纳米图形转印等下一代光刻技术的特点及其面临的挑战.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李霄燕	长春工业大学电气与电子工程学院	9	54	4.0	7.0
2	邵敏权	长春工业大学电气与电子工程学院	3	104	2.0	3.0
3	刘晓莉	长春工业大学电气与电子工程学院	1	27	1.0	1.0