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摘要:
等离子喷涂设备的高频引弧器是对PLC系统和设备元件构成强大威胁的干扰源,阐述了高频干扰的主要现象,探讨了解决干扰的一些措施.实验发现,等离子喷涂设备在起弧瞬间的工作电流骤升至近千安培.另外强电场干扰也是导致设备不能稳定工作的一个因素.实验表明,将高频电源与共用电源分离、改变控制电路以及在PLC和硅触发器电源线路上加滤波器等措施有效地抑制了高频引弧器对PLC系统和设备元件的破坏性干扰,确保了PLC系统实时控制的稳定性和可靠性.
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文献信息
篇名 等离子喷涂设备抗干扰问题的研究
来源期刊 沈阳工业大学学报 学科 工学
关键词 等离子喷涂设备 高频干扰 PLC自动控制 稳定性 可靠性
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目 材料科学与工程
研究方向 页码范围 159-161
页数 3页 分类号 TG456.2
字数 939字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-1646.2005.02.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵春元 沈阳工程学院机械系 19 180 8.0 13.0
2 王赫莹 沈阳工业大学材料科学与工程学院 25 170 7.0 12.0
3 屈伸 沈阳工业大学材料科学与工程学院 1 2 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
等离子喷涂设备
高频干扰
PLC自动控制
稳定性
可靠性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
沈阳工业大学学报
双月刊
1000-1646
21-1189/T
大16开
沈阳市铁西区南十三路1号
8-165
1964
chi
出版文献量(篇)
2983
总下载数(次)
5
总被引数(次)
22269
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