Ti离子注入对Al阳极氧化膜层阻抗性质的影响

• 作者: 左禹 张晓丰 熊金平 田连朋 赵旭辉 赵景茂
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Al 阳极氧化 离子注入 电化学阻抗谱
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 页码范围: 804-808
• 页数: 5页
• 分类号: TG172
• 字数: 3612字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2005.08.005

摘要

对L3纯Al进行了Ti离子注入与阳极氧化,用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了阳极氧化膜层的表面成分,利用电化学阻抗谱(EIS)研究了阳极氧化膜的腐蚀行为.结果表明,Ti离子以TiO2的形式存在于Al阳极氧化膜层中,Ti离子的注入并不影响Al阳极氧化膜的非晶结构.Ti离子注入可以使Al阳极氧化膜在酸性和碱性的NaCl溶液中的阻抗参数R明显提高,参数C降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊金平	北京化工大学材料科学与工程学院	111	1183	21.0	27.0
2	田连朋	北京化工大学材料科学与工程学院	5	112	4.0	5.0
3	左禹	北京化工大学材料科学与工程学院	211	2052	25.0	32.0
4	赵景茂	北京化工大学材料科学与工程学院	89	1109	20.0	28.0
5	张晓丰	北京化工大学材料科学与工程学院	25	263	9.0	16.0
6	赵旭辉	北京化工大学材料科学与工程学院	57	363	11.0	17.0