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摘要:
金属薄膜的制备及薄膜特性的研究是当今微电子技术发展和材料科学研究领域中的重要课题.本文介绍了如何将溅射镀膜及薄膜生长的动态监测技术引入到普通物理实验教学中,以及在相关实验教学装置的设计、实验内容的编排和教学方式等方面的一些特点.
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文献信息
篇名 将溅射镀膜及薄膜生长动态监测技术引入普通物理实验
来源期刊 物理实验 学科 教育
关键词 金属薄膜 溅射镀膜 动态监测 教学改革
年,卷(期) 2005,(5) 所属期刊栏目 实验教学研究
研究方向 页码范围 28-30
页数 3页 分类号 O484.1|G642.423
字数 2938字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-4642.2005.05.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邱宏 北京科技大学应用科学学院 37 225 9.0 13.0
2 田跃 北京科技大学应用科学学院 32 174 9.0 12.0
3 黄筱玲 北京科技大学应用科学学院 12 104 6.0 10.0
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研究主题发展历程
节点文献
金属薄膜
溅射镀膜
动态监测
教学改革
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理实验
月刊
1005-4642
22-1144/O4
大16开
长春市人民大街5268号东北师范大学内
12-44
1980
chi
出版文献量(篇)
3869
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22
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14724
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