乙二胺在化学沉积Ni-B合金中的机理

• 作者: 王森林
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 化学沉积 Ni-B合金 乙二胺 电化学极化 红外光谱
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 430-434
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 2812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2005.04.015

摘要

研究乙二胺稳定剂对化学镀Ni-B合金沉积速率和镀液稳定性的影响.实验表明,少量乙二胺可改善镀液的稳定性.镀液的电化学测试发现,乙二胺对体系的阳极过程和阴极过程均有影响,还原剂的氧化电流和合金的还原电流均随乙二胺加入量的增加而减少.红外光谱显示乙二胺附在镍基体表面发生化学吸附,从而抑制了还原剂的氧化,降低Ni-B化学沉积速率(稳定了镀液).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王森林	华侨大学材料科学与工程学院	47	290	9.0	14.0