利用数字散斑相关法测定聚酰亚胺/SiO2合成薄膜的力学性能

• 作者: 何小元 康新 林保平 董萼良 陈凡秀
• 来源期刊: 实验力学
• 学科: 物理学
• 关键词: 数字散斑相关法 聚酰亚胺/SiO2 薄膜 力学性能
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 目次
• 页码范围: 109-114
• 页数: 6页
• 分类号: O348
• 字数: 4293字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4888.2005.01.017

摘要

聚酰亚胺/SiO2合成薄膜是一种具有优良力热光电性能的薄膜材料,在MEMS工艺中具有广阔的应用前景,其力学性能测量的研究具有非常重要的意义.本文将数字散斑相关技术和微拉伸试验相结合,对厚度为37μm的聚酰亚胺(polyimide)/二氧化硅(SiO2)合成薄膜进行了力学性能测量,获得了比较满意的结果.文章给出了测得的弹性模量和泊松比.为了解决数字散斑相关法不能直接测量较大变形的缺陷,本文提出了多级相关算法,并利用亚像素搜索和双线性插值进行了数据处理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何小元	东南大学工程力学系	104	1108	17.0	27.0
2	董萼良	东南大学工程力学系	29	162	8.0	11.0
3	林保平	东南大学化学化工系	58	465	11.0	19.0
4	陈凡秀	东南大学工程力学系	4	40	4.0	4.0
5	康新	东南大学工程力学系	9	187	7.0	9.0