AlN基板表面处理对薄膜附着力的影响

• 作者: 刘刚 王从香 符鹏
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 AlN 表面处理 薄膜 附着力
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 45-47
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 2580字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2005.09.015

摘要

用扫描电镜和X射线能谱分析仪研究高温氧化及薄膜工艺过程中主要溶液对氮化铝陶瓷(AlN)基板的影响.结果表明:高温氧化使表面氧含量增加,在1 000℃氧化2 h,表面已形成致密的氧化层.碱性溶液清洗和去离子水煮会使表面产生多孔的疏松化合物.采用高温氧化、酸性清洗、溅射前加强离子轰击等措施,磁控溅射TiCu,其薄膜膜层附着力不低于15 MPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘刚		29	182	8.0	12.0
2	符鹏		9	107	5.0	9.0
3	王从香		14	35	5.0	5.0