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摘要:
High aspect ratio through-wafer interconnections for SD-microsystems;Kinematics and application of simultaneous double-disk grinding in silicon wafer planarization;Measurement of subsurface damage in silicon wafers ;New processes to prevent a flow defect in the combined forward-backward cold extrusion of a piston-pin
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 研磨
来源期刊 金属加工工艺与设备:英文版 学科 工学
关键词 研磨机械 过水作用 硅水偏振 测量方法
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 8-9
页数 2页 分类号 TG591
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研究主题发展历程
节点文献
研磨机械
过水作用
硅水偏振
测量方法
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
金属加工工艺与设备:英文版
双月刊
北京市百万庄大街22号
出版文献量(篇)
170
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