光盘制造中的溅镀工艺

• 作者: 胡平舟
• 来源期刊: 记录媒体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 真空镀膜 薄膜技术 试验研究 真空度 靶材 金属蒸气 生产人员 盘片 设定值 镀速
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 页码范围: 42-43
• 页数: 2页
• 分类号: TQ596

摘要

【正】二十世纪的前50年,世界各国科技人员经过大量的 试验研究基本建立了溅射理论。在二十世纪的后 50年里,薄膜技术获得了腾飞,这主要得益于真空技 术在镀膜方面的应用,使真空镀膜实现了产业化。由 于有了理论基础和成熟的工艺,各种镀膜设备也不断 推陈出新。其中Leybold公司较早的开发出各种镀膜设 备,也包括用于光盘生产的真空溅镀机。之后,广泛 用于光盘的溅镀机还有德国Balzers和Singulus公司的 溅镀机。