磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究

• 作者: 刘红梅 刘鑫 张辉军 曹茂盛 田风军 邱成军
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 薄膜 锐钛矿相 射频磁控溅射 光催化活性
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 测试与表征
• 页码范围: 35-37,46
• 页数: 4页
• 分类号: TQ134.17
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2005.10.009

摘要

利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张辉军	黑龙江大学集成电路重点实验室	10	50	4.0	6.0
2	邱成军	黑龙江大学集成电路重点实验室	35	231	6.0	14.0
3	曹茂盛	北京理工大学材料科学与工程学院	64	562	14.0	22.0
4	刘红梅	黑龙江大学集成电路重点实验室	12	58	4.0	7.0
5	田风军	黑龙江大学集成电路重点实验室	1	14	1.0	1.0
6	刘鑫	黑龙江大学集成电路重点实验室	10	189	4.0	10.0