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单轴晶光轴干涉图成因的理论分析
单轴晶光轴干涉图成因的理论分析
作者:
吴福全
赵爽
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
单轴晶
光轴
干涉图
锥光
摘要:
借助于数学工具和一种简单的实验装置,用直观的方法,使理论分析和图形相结合,从理论上解释了单轴晶光轴干涉图的成因,并给出了在白光照射下的干涉花样.搭建了实验光路,结果表明:若用单色光照射,干涉图为明暗相间圆环;若用白光照射,则为一个套一个的环状等色曲线.愈向视域边缘,干涉色级数愈高,等色曲线的数目愈多,密度愈大,表示晶体的双折射率愈大.实验结果与理论分析相吻合.
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文献信息
篇名
单轴晶光轴干涉图成因的理论分析
来源期刊
光学与光电技术
学科
物理学
关键词
单轴晶
光轴
干涉图
锥光
年,卷(期)
2005,(5)
所属期刊栏目
理论研究
研究方向
页码范围
59-61
页数
3页
分类号
O436-1
字数
1211字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-3392.2005.05.018
五维指标
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光轴
干涉图
锥光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
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