氢化物发生-原子荧光光谱法测染料中痕量砷和锑的研究

• 作者: 周青 文海初 谢华林 阳佑华
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 化学
• 关键词: 砷 锑 氢化物发生-原子荧光 L-半胱氨酸 染料
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 测试与标准
• 页码范围: 46-48
• 页数: 3页
• 分类号: O657.31
• 字数: 2178字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0439.2005.01.013

摘要

采用微波消解-氢化物发生-原子荧光光谱法,用L-半胱氨酸预还原法,对染料中砷和锑进行了分析,讨论并确定了实验最佳测定条件.结果表明,砷和锑的检出限分别为0.058μg/L和0.075μg/L,回收率为90.4%～105.0%,相对标准偏差分别为0.6%和0.9%.该法准确、快速、简便,应用于染料中砷和锑的测定,结果满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢华林	湖南建材高等专科学校化工系	100	980	15.0	28.0
2	文海初	湖南建材高等专科学校化工系	22	67	5.0	6.0
3	阳佑华	清华紫光古汉生物制药股份有限公司测试中心	9	59	5.0	7.0
4	周青	清华紫光古汉生物制药股份有限公司测试中心	7	51	5.0	7.0