硅衍射微透镜阵列的制作技术研究

• 作者: 周宏 易新建 柯才军 熊平 翁雪涛 赖建军 赵悦
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射微透镜 干法刻蚀 二元光学 软刻蚀 紫外模塑
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 材料及工艺
• 页码范围: 106-110,114
• 页数: 6页
• 分类号: TN25
• 字数: 4728字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2005.z1.031

摘要

介绍了二元光学方法制作多台阶衍射微透镜的设计和工艺过程;分析了台阶侧壁倾斜对衍射效率的影响;提出了一种基于软刻蚀技术的复制和集成新工艺.实际制作了8台阶硅衍射微透镜阵列,利用新工艺复制了硅衍射透镜阵列.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中科技大学光电子工程系	102	1261	21.0	29.0
2	赖建军	华中科技大学光电子工程系	30	317	10.0	16.0
3	熊平		21	434	5.0	20.0
4	周宏	华中科技大学光电子工程系	12	128	7.0	11.0
5	柯才军	华中科技大学光电子工程系	7	71	4.0	7.0
6	翁雪涛		10	10	2.0	2.0
7	赵悦	华中科技大学光电子工程系	9	32	3.0	5.0