磁控溅射制备五氧化二钒薄膜的研究

• 作者: 吴孙桃 李志栓 李静 郭东辉
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 氧化钒薄膜 XRD XPS 激光扫描共焦显微镜
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 285-287
• 页数: 3页
• 分类号: TQ135.1
• 字数: 2370字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.02.039

摘要

采用射频磁控溅射的方法,在不同条件下制备了氧化钒薄膜样品,分别在不同温度条件下做了退火处理,并对退火前后样品做了X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和激光扫描共聚焦显微镜测试与分析,旨在得出制备良好的V2O5薄膜的条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭东辉	厦门大学物理系	129	1611	20.0	35.0
5	李静	厦门大学萨本栋微机电研究中心	50	563	11.0	23.0
6	李志栓	厦门大学物理系	3	39	3.0	3.0
10	吴孙桃	厦门大学萨本栋微机电研究中心	31	484	11.0	21.0