光助类Fenton降解结晶紫染料废水

• 作者: 吴宝林 林金清 许庆清 龙明策
• 来源期刊: 华侨大学学报（自然科学版）
• 关键词: Photo-Fenton 过氧化氢 染料废水 结晶紫,降解
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 299-302
• 页数: 4页
• 分类号: X703|TQ613
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5013.2005.03.019

摘要

研究阳离子染料结晶紫在UV/Fe3+/H2O2体系下的均相降解,考察pH值、H2O2和Fe3+用量等条件对脱色率及COD去除率的影响.结果表明,紫外光能促进染料的脱色与矿化.当pH=2.70,H2O2=340 mg·L-1,Fe3+=28 mg·L-1时,结晶紫废水在80 min下的脱色率大于99%,COD去除率达到60.1%.H2O2分次投加时,COD去除率可提高到70.6%,反应表观活化能测定为79.0 kJ·mol-1.反应20 min后,水样的紫外-可见光谱表明,染料分子共轭结构被破化,但仍以小分子化合物存在.水样中的BOD5/COD由0.034提高到0.320,可生化性大大改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林金清	华侨大学材料科学与工程学院	81	1141	20.0	31.0
2	龙明策	华侨大学材料科学与工程学院	6	223	4.0	6.0
3	吴宝林	华侨大学材料科学与工程学院	1	33	1.0	1.0
4	许庆清	华侨大学材料科学与工程学院	11	164	6.0	11.0