基于光刻系统的精度增强技术

• 作者: 戎蒙恬 段营
• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: RET 光刻系统 集成电路
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 光刻工艺
• 页码范围: 30-33,66
• 页数: 5页
• 分类号: TN4
• 字数: 4423字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2583.2005.06.009

摘要

随着集成电路特征线宽的不断减小,当前的光刻系统中光的衍射和干涉等问题严重地影响了掩模图形的曝光准确性,而要解决这种问题的关键是采用RET(精度增强技术,Resolution Enhanced Technology).本文对现有的RET方法从系统的角度进行了总结.从一个光刻系统的图形出发,介绍了目前与之相关的RET方法并对RET的发展前景作了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戎蒙恬		229	1198	15.0	22.0
2	段营		3	10	1.0	3.0