热处理对静电自组装SiO2光学薄膜的影响

• 作者: 何方方 卢忠远 王兵 许丕池
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: SiO2 静电自组装 热处理 增透膜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 133-138
• 页数: 6页
• 分类号: O647
• 字数: 4288字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2005.01.027

摘要

以正硅酸乙酯(Ethyl silicate,TEOS)为原料,乙醇为溶剂,NH3·H2O为催化剂,乙醇水溶液为稀释剂制备了胶粒带负电荷、浓度为0.01g/mL的SiO2溶胶.在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(Electrostatic Self-Assembly Multilayer,ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机/无机复合薄膜.然后在不同温度下对其进行热处理.分别用A型缩合热分析仪(TG-DTA)、透射电镜(TEM)、傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、椭偏仪(TP-77型椭圆偏振光测厚仪)、721分光光度计、Nd:YAG激光器研究了温度对薄膜结构、组成、折射率、光学性能、机械强度以及激光损伤阈值的影响.得到了多孔、折射率低(1.27)、抗机械损伤强度大、激光损伤阈值高(68J/cm2)、透光性好(99.2%)的SiO2光学增透薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢忠远	西南科技大学材料学院	147	1630	21.0	33.0
2	何方方	西南科技大学材料学院	13	73	6.0	7.0
3	王兵	西南科技大学材料学院	41	255	9.0	14.0
4	许丕池	西南科技大学材料学院	7	38	4.0	6.0